4月13日
Nanoscribe将举办首届高精度3D微纳加工主题网络研讨会。
真挚地邀请您加入我们,一起探讨双光子聚合技术(2PP)在增材制造中的重要作用。
届时KIT纳米技术研究院(INT)院士Martin Wegener博士将与我们共同介绍2PP技术原理,并展示用我们无掩模光刻系统所制作的令人印象深刻的应用产品。
我们还将设有问答环节,欢迎一起分享您在项目中碰到的任何问题。
是不是蠢蠢欲动了呢?
快来加入我们吧!
其他资讯:
客户成功案例分享,在预制微流道中实现芯片内直接3D微纳加工制作微流控器件。该项目展示了一种全新的方式来制作具有嵌入式3D微流控器件的二维微流道系统。此外,我们更新的IP光敏树脂包装具备先进的便携式配给功能,采用手动或自动分配方式,能在确保精确计量的同时不产生气泡,使您的日常工作变得更加轻松。
更多有关3D双光子无掩模光刻技术和产品咨询
欢迎联系NanoscribeZG分公司 - 纳糯三维科技(上海)有限公司
德国Nanoscribe 超高精度双光子微纳3D无掩模光刻系统:
Photonic Professional GT2 双光子微纳3D无掩模光刻系统
Quantum X 双光子灰度光刻微纳打印设备
在线留言